据媒体报道,2019年的半导体光掩膜市场继续刷新历史新高,与2018年相比同比增长15%,增至4,915亿日元(约人民币294.9亿元)。由于EUV光刻(Lithography)量产工程的导入、以中国为首的新兴企业设计活动的兴起,以及光掩膜自制厂家逐步把EUV光掩膜投入到TSMC等的最尖端的工艺中,导致光掩膜市场出现较大增长。2019年,EUV光掩膜市场规模已超过1,000亿日元(约人民币60亿元)。继最先导入了EUV的“N7+”代之后,TSMC计划在2020年开始量产“N5”。据预测,“N5”有10层以上(是以往的2倍)的EUV层。同样,三星电子也完成了华城地区的EUV专用产线“V1”的建设,且把5nm定位为“反攻”的主要手段,预计未来EUV光刻的消费将会迎来巨大的增长,2020年以后EUV光掩膜还将出现继续增长的趋势。 光掩膜也称为光罩、掩膜版,是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版,是光刻环节中的关键材料。近年来,国内面板、半导体及PCB电路板市场持续增长,拉动光掩膜市场需求不断上行。据IHS统计,2018年中国光掩膜市场达到全球市场的40%,预计2020年将快速上涨到56%。目前专业生产光刻掩膜版的厂家主要集中在台湾、日本、韩国等国家和地区,市场集中度高,国内产品仅能满足中低档产品需求。目前国内光掩膜国产化率仅约20%,随着光掩膜下游市场的扩展,国产化替代空间巨大。 清溢光电(688138)公司主营掩膜版的研发、设计、生产和销售,高精度平板显示用掩膜版产品的生产技术已达到国际水平。 菲利华(300395)是国内唯一一家可以生产大规格光掩膜基板的企业。
【独家参考】
扬杰科技:大力拓展碳化硅器件应用市场、成为新的业务增长点 扬杰科技(300373)在最新披露的年报中表示,公司持续扩充8寸MOS产品专项设计研发团队人员,研发设计能力得到持续增强。针对已形成批量销售的TrenchMOSFET和SGTMOS系列产品,大幅扩充其产品品类,实现销售规模与市场占有率的同步提升。公司推出多款6寸高压MOSFET与8寸中低压MOSFET产品,与现有客户产品形成配套,年度营收实现过亿,成功打入5G、AC-DC快充、安防、汽车电子等下游领域,努力成为国产MOS替代的中坚力量。同时,公司与中芯集成电路制造(绍兴)有限公司签订战略合作协议,新增又一可紧密合作的晶圆代工厂,确保公司具有充足的代工产能资源。公司积极推进IGBT新模块产品的研发进程,成功开发50A/75A/100A-1200V半桥规格的IGBT,贡献持续稳定的销售额,是公司开拓工业领域重点变频器市场的关键举措。此外,公司大力开拓第三代半导体SiC器件的应用市场,部分重点客户端认证过程进展顺利,开辟了新的业务增长点。公司作为国内半导体功率器件领域龙头公司,业务增长多点开花,下游工控、新能源及点点等领域需求整体稳健向好,将受益于行业和国产化红利。
深南电路:公司二季度订单仍较饱满 产能利用率处于较高水平 深南电路(002916)在最新调研纪要中表示,公司已开出产能的利用率处于较高水平,且订单较为饱满。同时与去年同期相比,南通的数通一期工厂产能利用率有较大幅度提升,对于利润有正向贡献。此外,公司仍在持续开展专业化产线打造和智能化工厂建设,加强成本管控,优化内部运营效率,盈利能力亦有所提升。与去年同期相比,通信、数据中心(服务器)、医疗订单占比均有所提升。公司无锡基板工厂于2019年6月连线试生产,爬坡前期主要进行生产线导通、生产能力积累及客户认证。此次疫情对已通过认证的客户相关订单及生产受影响相对较小,还需认证的部分客户公司将会结合后续情况,持续加快推进。目前境内客户订单较为稳定,产能较为紧张;海外方面,目前阶段订单尚未受到影响。公司2020年Q2订单仍比较饱满,产能利用率预计仍将处于比较高的水平。此外,公司表示,公司所处的核心市场通信设备市场,以及这两年在聚焦培育的数据中心市场需求均较为旺盛,公司产能也处于较为紧张的状态。但海外疫情仍在动态发展中,全球经济发展态势下一步是否会对公司所处的市场领域产生更深远的影响,这一点尚需观察,公司会持续根据市场变化,积极做好内部风险管控。
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